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LAM 839-101612-885 模块是一种用于蚀刻工艺中的等离子体源模块。它用于在硅晶圆上沉积薄膜。该模块具有以下特点：
- 高精度：能够精确控制薄膜的厚度和均匀性。
- 高可靠性：采用高可靠性的设计和组件，确保长期稳定运行。
易于使用：安装简单，操作方便。
产品参数:
| 参数 | 值 | 单位 |
|---|---|---|
| 电源 | 400 V AC | - |
| 功耗 | 5 kW | - |
| 气体流量 | 100 slm | - |
| 腔室压力 | 0.1 - 10 Torr | Torr |
| 温度范围 | 25 - 300 °C | °C |
| 尺寸 | 1000 mm x 500 mm x 500 mm |
